PfeifferAplikasi pompa molekuler dalam lini produksi LOW-E (kaca radiasi rendah)
Low-E adalah nama lengkap dari Low Emissivity Glass. Kaca reflektif panas relatif adalah jenis kaca hemat energi baru. Saat ini secara internasional secara umum menggunakan teknologi pelapis sputtering magnetron vakum (metode offline) untuk memproduksi kaca Low-E. Pfeiffer dari Jerman dijual oleh BertonPompa molekulersukses diterapkan untuk hal ini.

PrinsipKaca ditempatkan vertikal di rak, dimasukkan ke lingkungan vakum 10-1 Pa, masuk ke jumlah gas proses yang tepat (gas inert Ar atau gas reaksi O2, N2), dan menjaga stabilitas vakum. Target Ag, Si dan lain-lain tertanam dalam katoda dan ditempatkan dalam medan magnet dalam arah horizontal vertikal dengan katoda sehingga membentuk target magnetron. Dengan magnetron target sebagai katoda, ditambah dengan DC atau AC sumber daya, di bawah tegangan tinggi, gas proses terjadi ionisasi, membentuk plasma. Di antaranya, elektron dalam efek bersama medan listrik dan magnetik, melakukan gerakan spiral kecepatan tinggi, bertabrakan molekul gas, menghasilkan lebih banyak positon dan elektron; Positon di bawah peran medan listrik, setelah mencapai energi tertentu menabrak target katoda, target yang disemprotkan disimpan pada substrat kaca untuk membentuk film tipis. Untuk membentuk lapisan membran yang seragam dan konsisten, target katod bergerak ke depan dan ke belakang dekat permukaan kaca. Untuk mendapatkan membran multi-lapisan, harus menggunakan beberapa katoda, masing-masing katoda bergerak ke depan dan ke belakang di permukaan kaca, membentuk ketebalan membran tertentu.

PFEIFFER memenangkan dukungan pelanggan di pasar LOW-E dengan pengalaman lebih dari 120 tahun dalam manufaktur vakum dan layanan purna jual dan dukungan teknis di seluruh dunia. Von Ardenne adalah pelanggan yang paling khas. PFEIFFERPompa molekulerJalur produksi LOE-E digunakan di Sinyi Glass, South Glass dan raksasa manufaktur kaca Cina lainnya.
PfeifferPompa molekulerKeuntungan:

• Pelbagai kecepatan pompa untuk pilihan pelanggan, kecepatan pompa 1.000 hingga 2.000 L / S
• Untuk H₂, Dia dan Ar, CF₄Dengan kecepatan pompa tinggi
• Posisi instalasi dari 0 sampai 90 derajat, 90 sampai 180 derajat
• Aliran gas yang tinggi, bahkan Ar, CF₄
• Unit drive TC 1200 terintegrasi untuk menyambungkan langsung ke sumber daya
• Kapasitas tahan korosi untuk dipilih
• Antarmuka yang kaya: RS-485 dan remote control; Profibus atau Devicenet tersedia untuk dipilih
• Memiliki kelas IP 54 dan Semi S2
• Sistem bantalan rotor yang stabil dan aman
• Sesuai dengan sertifikasi UL, CSA dan TUV
• Instalasi sederhana